可見光衰減片的方法有很多種，包括電鍍、化學(xué)鍍，真空蒸發(fā)鍍以及磁控 濺射鍍膜法。

工業(yè)化生產(chǎn)中人們既關(guān)心產(chǎn)品的綜合性能又要考慮制備成本，在 以上制備方法中化學(xué)鍍膜工藝流程簡單，成本低廉，且操作簡便，因此受到人 們的重視，但該方法會產(chǎn)生廢液，污染環(huán)境；磁控濺射鍍膜工藝技術(shù)先進(jìn)， 制備的薄膜具有質(zhì)量保證，是目前廣泛應(yīng)用的一種制備手段，相比于其他方 法，磁控濺射鍍膜具有成膜速率高，基片溫度低，膜粘附性好等鍍膜優(yōu)點(diǎn)，而 且對環(huán)境無污染，適合低碳要求，是一種綠色制造技術(shù)，是最有發(fā)展前景的表 面涂覆技術(shù)之一 。

從市場需求的角度看，滿足光衰減器小型集成化、系列 化的發(fā)展，但其使用設(shè)備儀器復(fù)雜，靶材尺寸固定，原材料需要加工，成本相 對較高 。

基于產(chǎn)品性價比的考慮，有必要對化學(xué)鍍和磁控濺射鍍這兩種典 型鍍膜方法進(jìn)行綜合分析和對比，進(jìn)而研究工藝參數(shù)對 Ni/Si O 2 光衰減片的表 面形貌、晶體結(jié)構(gòu)、三維結(jié)構(gòu)、粗糙度以及對光衰減率的影響，通過調(diào)節(jié)工藝 參數(shù)來獲得具有不同光衰減率的光衰減片，從而滿足人們對不同膜系功能的需 求。